光刻是半导体生产中最重要的工艺步骤:
光刻是半导体器件制造的最核心步骤,直接决定集成电路的性能和良率。光刻机的核心工艺指标包括:分辨率、 聚焦深度、套刻精度、曝光功率及单位时间产能等。主流的光刻机均采用浸没系统、可编程光照、畸变修正、热效应修正、对准与表面测量等高难度技术。 光刻设备均具有高技术附加值,毛利率超过 50%。
成熟工艺领域为主,国内光刻设备市场广阔:
中国大陆以成熟制程为主的半导体产线不断扩产,产生了大量光刻设备的需求。2021年ASML 有高达27.4 亿欧元的营收来自中国大陆(其全球第三大市场);全球光刻设备市场规模超180亿美元,显影涂胶设备市场超 30 亿美元。国产光刻曝光设备尚处于 实验阶段;显影涂胶设备已覆盖浸没式 ArFi 工艺节点,突破动能强劲。
光刻机上游零部件市场有待发掘:
光刻机的运行需光源、照明、掩膜台、 物镜、工件台等多个精密系统组合工作,全球光刻零件市场至少约 70 亿美元 (按 50%毛利率推算)。相比其他半导体零件,光刻机零件单个价值量高,技术难度大。贸易限制导致海外供应链风险剧增,国内光学企业成为不二之选, 技术能力与对应产品的盈利能力有望加速成长。
光刻机的国家队:上海微电子负责总体集成,上海光学精密机械研究所负责超精密光栅系统,北京国望光学负责光刻机物镜组,科益虹源负责光源,浙江启尔机电负责浸液系统,华卓精科负责双工件台
科益虹源公司的控股股东是中科院微电子所,持股26.6%,主要业务就是光刻机中的三大核心技术之一的光源系统,是国内第一、全球第三的193nm ArF准分子激光器企业。