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光刻胶

光刻胶,半导体材料皇冠上的明珠。

光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶由感光树脂(聚合剂)、增感剂(光引发剂)、溶剂与助剂构成。光引发剂是光刻胶的关键成分,对光 刻胶的感光度、分辨率起着决定性作用。感光树脂用于将光刻胶中不同材料聚合在一起,构成光刻胶的骨架, 决定光刻胶的硬度、柔韧性、附着力等基本属性。溶剂是光刻胶中最大成分,目的是使光刻胶处于液态,但溶剂本身对光刻胶的化学性质几乎没影响。助剂通常是专有化合物,主要用来改变光刻胶特定化学性质

光刻胶按应用领域分类,主要分为半导体、面板和PCB(印制电路板)用光刻胶,且难度依次降低。目前,中国本土光刻胶以PCB用光刻胶为主,平板显示、半导体用光刻胶供应量占比极低。光刻胶是集成电路制造的重要材料,光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、成品率及可靠性的关键因素。半导体用光刻胶按不同制程可分为EUV(极紫外光)光刻胶、ArF(193nnm)光刻胶、KrF(248nm)光刻胶及G线(500nm以上)、i线(350nm-500nm)光刻胶。

光刻工艺的成本约占整个芯片制造工艺的35%,耗时占整个芯片工艺的40%~60%,是半导体制造中的核心工艺。光刻胶材料约占IC制造材料总成本的4%,是半导体集成电路制造的核心材料。

国产光刻胶发展充满机遇:

  1. 下游LCD产业向大陆转移+集成电路成熟 制程扩产显著,为国产光刻胶企业提供发展土壤与市场空间。

  2.  近期KrF光刻胶供应受限,使供应链安全与全产业链自主可控成为重中之重,特别是在28nm及以上成熟制程应用领域;日本光刻胶产业集群的发展为国内光刻胶企业提供借鉴经验。

  3. 光刻胶具备高重要程度+成本不敏感属性,供应链存在天然高稳定性的特点,在加速进口替代的趋势下,我们看好核心材料一体化+具备先发优势的龙头公司。

面对日本产业集群分工模式和寡头垄断格局,国产光刻胶企业面临大陆面板、半导体产业链蓬勃发展的历史性机遇,与下游企业抱团加快研发进程和产品导入,完成从0到1的突破,从松散布局到系统化发展,把握下游成熟制程下光刻胶市场,实现上核心材料一体化自主可控。

线索:

  • 20210630 上海新阳:KrF(248nm)厚膜光刻胶产品成功取得首笔订单

    上海新阳公告,公司自主研发的KrF(248nm)厚膜光刻胶产品近日已通过客户认证,并成功取得第一笔订单。本次产品认证的通过及订单的取得,标志着“KrF(248nm)厚膜光刻胶产品的开发和产业化”取得了成功,为公司在光刻技术领域目标的全面完成奠定了坚实基础。

概念股:

名称
标的指数
关联
核心
krF(248nm)厚膜光刻胶产品成功取得首笔订单,定增助力 KrF&ArF 光刻胶实现量产,持有38%股权的子公司芯刻微购得ASML XT 1900 Gi型二手光刻机一台
02 专项 ArF 光刻胶研发顺利结项,募投配合实现产业化,目前已完成25吨光刻胶生产线建设
国内龙头之一年产1000吨光刻材料(700吨光刻胶+300吨配套化学品)
公司2021年购入的ArF光刻机现处于设备调试阶段,将用于研发90-28 nm先进制程的ArF光刻胶
nm光刻胶2次使用的清洗试剂都提供,都是量产
PCB光刻胶光引发剂供货世界顶级干膜厂商,KrF光刻胶用光酸、光酸中间体及聚合物(量产)
紫外固化和电子化学品龙头,TFT-LCD 光刻胶产能待释放
目前国内唯一拥有并正常使用荷兰ASML光刻机的光刻胶公司,是国内光刻胶龙头
公司的湿电子化学品可用于光刻胶基材
公司CF光刻胶产品用于平板显示领域,已成为华星光电合格供应商
并购布局面板&IC光刻胶,募投项目加码高端市场
特种橡胶助剂龙头,北京科华(持股56.56%)+北旭电子打造光刻胶平台,公司是国内唯一可以批量供应KrF光刻胶给本土8寸和12寸的晶圆厂客户的公司
公司投资的徐州博康突破了国内光刻胶领域的技术壁垒并实现规模化生产。
已收购大晶新材100%股权,将全力推进千吨级光刻胶及配套试剂项目
公司与台湾廣至合作研究开发紫外光型正型光刻胶已有产品通过中国台湾地区客户小试成功